第321章 怒吼的學術權威
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顧所長同意對重光公開全所員工檔案,並召開全體員工大會,這讓胡一亭感到滿意,於是接下來大家繼續討論晶圓廠的設備和214所的技術儲備。顧所長身邊已經漸漸聚集了一批所裏的工程師們,足有十五、六人之多,都好奇地打量著胡一亭和康耀祥,認真地聽他們說什麽。
康耀祥毫不怯場,站在無塵車間的走廊裏,隔著牆玻璃指著廠房裏的光刻機道:“作為試驗線,1.5微米還是保守了。
現在成都光機所已經拿出了0.8微米分步重複投影光刻機,今年1月份以工藝流片成功率80%以上的好成績通過了國家驗收,目前正在北都微電子中心進行設備的安裝調試。
按照計劃,他們打算今年年底之前,大概11月12月的樣子,就可以開始進行國產設備的‘0.8微米CMOS全套工藝’的工藝考核,預計半年之內可以見分曉。
到時候咱們國家就算是正式擁有了屬於自己的0.8微米製程全套生產設備和製造工藝了!我看這次考核一定能通過!原因很簡單,目前0.8微米製程工藝已經在微電子所實現了高良品率的實驗通過,而且這段時間經過908華晶工程的檢驗,完全可以滿足高良品率的生產製造任務!
華晶廠目前以0.8微米製程工藝生產我們重光的CMP1J1芯片,良品率已經超過了70%,並且還把一微米製程的遊影霸王芯片成功移植到了0.8微米製程上,達到了60%以上的良品率。
所以樂觀地說,我國目前基本上是已經掌握了了0.8微米製程工藝和設備製造的自主技術,唯獨欠缺的是0.8微米製程下的IC設計能力,這方麵國內也隻有我們重光一家有著深厚的功底和成功經驗,畢竟目前可供使用的試驗線實在太少了,屈指可數的那幾家IC設計單位,也都沒有很強的工藝儲備,研發經驗比起國外公司差的太多。
我們重光要保持領先優勢,就必須繼續在新工藝上持續研發,不能滿足於0.8微米製程的設計,還要為將來的0.35微米製程工藝儲備技術和試驗參數。
所以胡總和我商量之後,決定把你們214所這條線進行技術改進,打算向中科院光電技術研究所也就是成都光機所下訂單,與北都微電子中心同步安裝他們的0.8-1微米分步重複投影光刻機。”
顧所長聞言讚道:“我知道你們重光公司是國內唯一一家有0.8微米集成電路設計技術的企業,你們能把所裏的這個晶圓廠提升到什麽程度,我們也很好奇啊,你們打算怎麽搞,能說說嘛?嗬嗬嗬,要是方便的話。”
214所的工程師們也都點頭,很想知道重光打算怎麽改造這條線路。
胡一亭見在場的都是工程師,於是便坦誠相告道:“我們打算從長春光機所訂一套高參數標準的物鏡,縮小倍率大約是八倍到十倍,用來替換成都光機所這款光刻機上的五倍物鏡。
當然這個花費很大,不過目前我已經有了新物鏡的初步設計方案,等我把設計思路大體搞出來以後,就派人去和長光所談,不管多少錢,總要不惜代價的把東西做出來。
當然,換了物鏡之後,良品率肯定是不能保證了,但既然是試驗線路,也不在乎這個問題。
另外提升製程的辦法還有很多,比如控製光刻膠的厚度,或者用流明度更高的進口膠代替國產膠,再比如設計更精準的步進電機以改善套刻精度,或者幹脆縮小像場尺寸,等等等等,手段五花八門,反正這裏大家都是內行,應該對這些都不陌生吧。”
有工程師道:“胡總你年紀輕輕,但一聽你說話,我就知道你是內行,真不簡單啊!你真的才17歲嗎?”
“哈哈哈……”
此言一出,車間走廊裏立刻響起了一片善意的笑聲。
胡一亭笑道:“我是天才嘛,這一點江水書記都承認,你們還信不過我嗎?我解的龐加萊猜想你們看過嗎?覺得怎麽樣?”
有工程師道:“胡總工你好,我叫奚龍山,我看過你的龐加萊猜想,不過看了一半就看不懂了,很慚愧啊,但我相信你是天才,真的!你很了不起!”
胡一亭問:“奚工你留不留下?”
奚龍山道:“我本來是想去廬州的,畢竟是省會大城市嘛,但看了你的《龐加萊猜想暨幾何化猜想的完全證明》之後,我還是挺心動的,覺得你們重光是有很強的核心技術的,畢竟你們設計的幾款芯片和程控機名氣現在都很大,所以我主動申請留下來了。”
胡一亭和康耀祥幾乎同時道:“歡迎你加入重光!”
奚龍山仿佛要考考胡一亭和康耀祥,問道:“胡總工,康總工,我們這套光刻機也是成光所的,自從把線寬從3微米調整到了1.5微米之後,透鏡的發熱問題就很嚴重了,你們將來要把五倍物鏡換成8到10倍,那你們打算怎麽解決曝光能量的發熱問題,發熱後引起鏡頭變形和偏焦,長時間這麽幹,那可要把設備毀了的。”
聽到奚龍山發難,立刻有同事也參與進來:“胡工康工你們好,我叫王選玉,也是214所的高級工程師,我想請問你們有什麽辦法解決光刻膠引起的顯影缺陷嗎?目前國內工藝裏的光刻膠清洗中,殘膠問題很突出,導致下一工序中的重複投影出現圖形失效的問題很嚴重,對良品率影響很大,你們的實驗線有沒有打算對這一問題進行改進?”
顧峽生一看這陣仗嚇了一跳,心說這不是為難人家嘛,這個胡一亭數學水平再高,也對付不了你們這群術業有專攻的高工啊!高級工程師可是副教授級別,研究員級高級工程師是正教授級別。好家夥,這一群人裏倒有一半是正教授,剩下一半副教授,你們一人問一個問題,這胡總就是有三頭六臂也答不上來吧!他雖然是世界級數學天才,又精通IC設計,但怎麽說也不可能對工藝製程了解的像你們這麽深啊!
“大家都別為難胡總和康總了,這些技術問題是所有晶圓廠的通病,你們這樣問,讓康總和胡總怎麽回答嘛!”
康耀祥也訕訕地笑著,心說這還真不好回答,畢竟每個廠都有自己的工藝,解決問題的辦法各不相同,真要籠統的回答,未免要被大家瞧不起,但若不結合具體問題來談,那這個問題就沒了邊際,說到明天早上也說不完啊。
正當康耀祥猶豫著怎麽說才合適的時候,胡一亭卻很認真地開了口。
“這有什麽難的,光刻機鏡頭是個大型組合鏡頭,光是鏡片就有十幾二十片,套筒一個接一個,想要完全避免幾何畸變是不可能的,這個問題無論哪家光刻機廠商都有。
作為照明源的高壓汞燈能量很高,曝光時的快門速度隻有零點幾秒,自然是會導致鏡頭組件出現瞬間加熱又瞬間冷卻的幾何畸變,但這些都是工程上的問題,我們做製程的不要去過多的考慮,不要去抱怨機子不如外國人的問題,要是機子和外國人一樣好了,還要我們幹什麽!
我們要知道,製程工藝裏是允許幾何畸變的,甚至要利用幾何畸變,首先我們要摸清畸變的像場特征,從而在鏡頭對焦時尋找畸變誤差最小的對位點,這既要求我們一次次的實驗,尋找每個鏡頭的畸變像場特征,也要改進我們的矽片定位係統,改進激光幹涉儀的精度,確保畸變可控。
我就隻說這麽一個思路吧,再多的我就不說了,都是技術機密。
至於光刻膠殘留造成的顯影缺陷,那就更容易解決了,我再說一遍我們是搞製程的,不是搞化學的,光刻膠今後再怎麽進化,用聚乙烯醇肉桂酸脂也好,環氧橡膠雙疊氮也好,酚醛樹脂重氮萘脂也好,那都是化工企業的問題,他們廠家怎麽改進配方,那都不是我們要關心的問題。
為了徹底脫膠,我的思路是上雙層膠,降低膠膜對光源的反射,也就是目前國際上剛提出來的用抗反射劑來解決膠體殘留影響曝光的思路,其中一層膠體在曝光下分解酸性氣體,可以徹底清除殘膠,解決殘膠影響曝光的問題,從而解決顯影缺陷。
好吧,我就說這麽多吧,至於具體的雙膠工藝如何做,那都是技術機密,我不能說。
總之突破這兩個工藝之後,製程技術直上50納米不成問題!今後我們重光的製程技術攻關就在這兩點上!!!”
要知道,胡一亭在跳槽華創擔綱天思930芯片研發總設計師之前,他在浦海微電子裝備集團就是專門負責集成電路生產設備的製造與生產工藝流程結合,負責為光刻機等先進製程設備與具體IC生產工藝融合而設計最佳方案的!若論對於晶圓廠製程工藝的了解,他算是1996年地球上排名第一的學術權威。
他剛才這番話完全是按照世界製程工藝未來的技術路線在闡述,可謂是高屋建瓴般的技術見解,好比天水順著屋脊瓦當流下來那麽勢不可擋!
這年頭國內的製程工藝比起西方來還差得遠,西方對華的技術封鎖造成了國內在這方麵有大量技術空白。
對於在場的工程師們來說,胡一亭的話就像飛流直下三千尺的瀑布一樣具有衝擊力,聽在耳朵裏簡直就像是晴天霹靂,大家覺得胡一亭的路子實在是邪門!實在是野!但似乎又充滿了讓人渾身起雞皮疙瘩的靈感!就好像在大家的眼前打開了一閃光芒四射的大門!門後是堆積如山的奇珍異寶正在爍爍發光!
胡一亭低著頭說完之後,抬起頭來,見所有人都在激動而不安地注視著他。
以為大家不相信自己的胡一亭開始惱火,揚聲大吼道:
“怎麽啦?我說錯啦?誰不服站出來說說你的解決方案!
你們啊!圖樣圖森破!
我胡一亭是不可能錯的!
隻要你們跟著我幹!0.35微米那就是小菜一碟!
50納米……指日可待!!!”