李興沒有說大話，第二天他就拿著一份方案找到了鄭南。
    “鄭廠長，我認為現在無法推進更高製程的主要原因，除了一個是光刻技巧外，還有更重要一點就是無法製作相應的光掩模。”
    接觸式光刻的原理就是用光這把刻刀透過光掩模這塊遮光板，把想要的芯片圖案1:1等比例投射在下麵的矽片上。
    也就是說下麵芯片能做出多精細的製程，首先得取決於你能做出多少的光掩模，你不可能拿一張一毫米的光掩模做出10微米的芯片來，相反你要是能拿出......
    《重生之芯片大亨》第三百二十二章 為華夏芯片崛起而抄 正在手打中，請稍等片刻，
    內容更新後，請重新刷新頁麵，即可獲取最新更新！