第049章 捅破一層窗戶紙
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第一次進入清大光刻機車間,趙國慶有些激動,直接直奔主題,幾個關鍵技術。
“何教授,你們這光刻機用的什麽光源?”
“你還真懂光刻機啊!”
趙國慶笑了笑:“書上有介紹!”
何振華說:“用的高壓汞燈光源,436納米的藍光汞g線,這類高壓汞燈光源目前已經達到國際先進水平!”
好吧,國際先進水平,國際上十年前都已經開始研究波長更短的紫光激光電源了。
趙國慶想起kbbf晶體在零下213攝氏度的時候,出現超導現象。
就在他用x光穿透kbbf晶體的分子結構時,發現進入超導狀態的kmbbf晶體,竟然可以反射x光。
這可是了不得的發現。
x光因為有強大的穿透力,目前任何透鏡都不能讓他轉移方向,而kmbbf晶體如果能讓x光反射的話,可以通過凹麵鏡,縮小掩膜版的圖像,對光刻機光源有著顛覆的變革。
可惜的事,發現這件事後,沒多久就掛了,沒有再研究下去。
不過,現在,他有足夠的時間繼續這項研究。
何振華教授繼續介紹,從口氣中聽出的,全部是遙遙領先。
“采用的是國際先進的非接觸式透鏡曝光方法,成像質量高,比起三年前h大製作的接觸式曝光,可以顯著提高掩膜版的使用壽命,並且透鏡曝光可以以掩膜版比光刻圖案5:1的比例,可以製造更複雜的芯片。”
趙國慶點點頭,他雖然對光刻機算不上內行,但怎麽也能說是見多識廣。
intel、ibm的芯片製造廠他都進去過,從九十年代一直到2023年,國外光刻機一路演變,他還是清楚的。
“436納米的藍光汞g線光源,加上非接觸式掩膜曝光工藝,理論上可以製造一微米製程的芯片!”
若采用多重曝光甚至可以製造500納米製程的芯片,或者水膜浸潤工藝,當然技術難度更高一些,極致可以製造250納米芯片,這些話沒辦法說。
至於用九十年代發明的kbbf晶體升級極紫外光,還有雙工台提升商用製造效率,現在還是沒影的事。
能不能現在開始布局?
沒說的,肯定要幹啊!
趙國慶的問題,何振華教授沒有回答,而趙國慶也發現了一些問題。
“校準采用的是人工校準!”
光刻流程不是一步到位,有時候需要反複多次,所以再次光刻,位置如果有細微的改變,往往意味著製造失敗,所以需要校準。
而校準的辦法就是在晶片上留下一個標誌,以這個標誌來校正。
何振華搖搖頭。
“國內最先進的魔都電機廠都沒有合適的伺服電機,國內的光壓傳感器靈敏度不夠,隻能用人工校準,我們采用三軸人工校準裝置,誤差可以精確在一百納米。”
趙國慶搖搖頭,這台光刻機根本沒有商業方麵的使用前途,xyz三軸人工校準,雖然沒看他們操作,時間上肯定不會短。
“光刻膠,蝕刻氟化氫……”
“進口日本的?”
“曝光用的透鏡呢!”
“進口日本尼康!”
好吧,趙國慶大概也明白了。
“之所以沒辦法製造一微米製程的芯片,是不是因為晶體管連接的鋁導線的原因?”
何振華驚訝的看向趙國慶,這事他可一點也沒有向趙國慶透露。
高昌明亦是長歎,這小趙一次又一次刷新他的認知。
看看何振華的表情就明白了,第一次見麵的時候,是高高在上的姿態,今天呢,已經把趙國慶當成一個平等對待的人了,而現在,似乎稍微帶著一點仰視。
“你怎麽知道的?”
趙國慶若無其事的說道:“光源、透鏡、校準,還有膠體、蝕刻材料都沒有問題,那隻能是晶體管鋁互聯發生了問題,誰都知道,矽襯底跟金屬鋁會發生擴散,製程越小擴散越嚴重,直到不能工作!”
“我如果猜的沒錯的話,你們三微米,甚至五微米製造的芯片,恐怕也不能實現設計的頻率吧!”
“……”
誰都知道,為什麽我就不知道,高昌明很無語。
“你怎麽知道的?”
趙國慶說:“何教授,你可以翻一下1974年《微電子行業》期刊,上麵就有介紹!”
“……”
知道了症結,要解決就容易了,趙國笑著對何振華說:“何教授,我有辦法,你信嗎?”
“你有辦法?”
“加一層隔離金屬層就行!”
用一層金屬層將鋁與矽隔離開來,隔絕彼此擴散。
何振華搖搖頭說:“我們也想著用一層金屬隔離層,但還沒有找到合適的材料!”
有時候就是這麽扯淡,很多時候,就因為一個小東西,阻擋技術進步多年,等到公開後,才發現,特麽的就是一個屁。
“何教授,試一試用鎢,上次你做發光半導體用的金屬原子蒸餾器就可以,晶片上矽襯底上,先沉積一層鎢薄膜,再上鋁導線層。”
“真的能行?”
何振華眼睛直直的看向趙國慶,要是真能行的話,直接從五微米製程,進展到一微米製程,這意義,不可謂不大。
高昌明也坐不住了。
“國慶,科技部剛剛發的文件,要鞏固五微米,攻關三微米,邁步一微米製程,你這不鹹不淡的一句話,科技部發的文倒成了笑話了。”
“有這文件?我還以為我們可以生產一微米製程的芯片呢?”
“……”
何振華搖搖頭。
“也不費事,設備都有,試試看吧!”
…………
趙國慶長呼一口氣,能幫的也就這麽些了,不過這些透鏡、光刻蝕刻材料都是日本進口的,也是挺讓人憂慮的。
還有就是工藝自動化,如果不解決,光刻機項目永遠沒辦法商用,也就是說永遠沒有自動造血能力。
趙國慶跟高昌明說:“高所長,如果有可能的話,14所還是要進幾台尼康的光刻機。”
現在的asml還是個小弟,最先進的還屬日本的光刻機,能搞幾台進行逆向工程,積累一些技術基礎,還是很有必要啊!