一、1931年：魯斯卡使用冷陰極放電電子源和三個電子透鏡改裝高壓示波器，首次實現電子顯微成像。1932年：魯斯卡進一步改進設計，將分辨率提升至50納米，標誌著電子顯微鏡進入實用階段。
    二、世界上第一台五坐標聯動數控機床誕生於1959年，由美國辛辛那提公司（Cincinnati Milacron）生產。
    三、1881年：德國科學家馬克斯·舒勒（Max Scer）發明了第一台光刻機，用於印刷術。1952年：美國科學家理查德·霍夫（Ricler）發明了第一台電子束光刻機，用於半導體製造。1958年：美國德克薩斯儀器公司（Texas&nents）試製成功世界上第一塊平麵集成電路，標誌著光刻技術開始應用於半導體領域。1959年：荷蘭飛利浦公司研發出第一台商用光刻機，應用於半導體產業。
    1955年，貝爾實驗室的Jules Andrus和Walter L. Bond開始采用光刻技術在印刷電路板上製作圖案，使用二氧化矽層在矽片上產生更精細、更複雜的設計。1957年，美國陸軍Diamond Ordnance Fuse實驗室的Jay Latl獲得了光刻技術的專利，該技術用於沉積約200微米寬的薄膜金屬條。1958年，Faircd的Jay Last和Robert Noyce製造了首批“步進重複”相機之一，利用光刻技術在單個晶圓上製造了許多相同的矽晶體管。1959年，GCA收購了David W. Mann，成為光刻技術的先驅之一。
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