其實我早就已經在做芯片產業的布局了。雖然我也承認，咱們國家的芯片半導體技術，眼下是不如米聯邦。但也沒你們想的那麽差。

    告訴你們一個好消息吧！咱們i光源投影式國產光刻機已經完成了技術突破。理論上已經能夠製造出三百八十到三百五十納米以內的芯片。更重要的是屬於咱們自己的邏輯處理器芯片也已經設計完成，隻要國產光刻機一到位，馬上就能生產出咱們自己的芯片了。”

    眾人聽到這當然是目瞪口呆了。

    龍翰科技能生產出自己的處理器芯片了。

    真的假的？

    這幸福也來的太突然了吧！

    韋弘業急忙道：“蘇總，您說的都是真的嗎？”

    蘇翰道：“當然是真的了。我是那種喜歡開玩笑的人嗎！對了，金總監, 我在魔都建設的芯片工廠，已經建設完成了。你去組織一隊精兵猛將。我現在已經定了一套芯片試驗性的生產線，最近就要組裝，然後試生產。你去魔都的芯片生產廠，去那邊組織組織，把試驗車間準備好，東西一到位, 盡快安裝。咱們要抓緊時間調試設備，必須要在短時間內，生產出咱們自己的芯片來。這次必須要讓米聯邦那幫家夥看看，西方不亮東方亮，這地球離開誰都照樣轉。

    某國人不讓咱們用他們的芯片，咱們就自己造芯片。

    這次必須要讓全世界的人都知道，說到計算機，龍翰科技硬件水平也是一樣強。”

    金夢凡急忙拍胸脯接下了這個軍令狀。

    其他行政部門的負責人也是一臉的羨慕。

    金夢凡這麽一去十有八九就是地方大員了。

    國內首個芯片生產廠的行政一把手，想想也是牛逼的不行。

    蘇翰看了看眾人道：“大家按部就班，該幹什麽，還幹什麽。芯片的事情出去不要亂說，等到時候咱們用上自己的芯片以後，看看米聯邦那幫家夥，還說什麽。”

    眾人聞言頓時是血條再次滿血複活。

    一個個再也不像之前那樣有氣無力了。

    紛紛都想打好這場翻身仗。

    ……

    會後。

    金夢凡帶著一幫親信前往魔都的芯片生產廠。

    芯片生產廠，已經建好半年多了, 由於一直沒有設備, 隻是反複在做空氣質量測試。

    畢竟芯片生產需要無塵環境對空氣質量要求還是非常高的。

    金夢凡帶隊到了以後, 急忙組織人員，準備迎接設備的到來。

    ……

    一周後。

    首批測驗用的光刻機、封裝機、離子注入機等等設備紛紛到廠開始安裝。

    光刻機最重要的功能就是光源和曝光工藝。

    國產光刻機以前為什麽不行, 主要是光源技術明顯滯後, 當然曝光工藝也不行。

    其實國際市場上產量最大的芯片生產設備，普遍還是采用第一代g光源的一點五微米到八百納米左右的技術。

    畢竟不是所有的芯片都要求三百五十納米以內的高端芯片製造。

    而第二代的i光源才是主要用於三百六十五納米左右的芯片製造。

    不過第三代光源深紫外光（duv）也已經有了。

    隻是這會還不是很穩定並不能形成產能。

    而第四代光源技術極紫外光（euv）現在所有人都沒有頭緒。

    全球所有的光刻機製造領域幾乎都卡在這個地方。

    雖然芯片生產已經嚐試向著第三代光源靠近。

    但量產的其實還是在第二代附近轉悠。

    英特爾公司的奔騰係列和am公司的k係列用的都是第二代光源量產的產品。

    全球的光刻機市場，實際上還是第二代光源技術在坐莊。

    說到這個時間節點的光刻機製造水平。

    以長島國的兩個品牌為主。

    而蘇翰說的國產光刻機之前還處於第一代的水平。

    說完了光源問題又要說說曝光工藝的問題。

    畢竟光源和生產工藝缺一不可。

    現在的光刻機曝光工藝總共分為三種。

    第一種接近式曝光。

    第二種接觸式曝光。

    第三種投影式曝光。

    接觸式曝光精度很高。

    但接觸式曝光需要接觸晶圓片，容易造成晶圓片和掩膜版的損傷，良品率低，成本高，不適合大規模生產。

    現在幾乎沒人用了。

    接近式曝光，雖然不觸碰晶圓片，沒有損傷，良品率也高。但接近式曝光也有自己的問題，就是有光線衍射問題，光線衍射以後分辨率低。想要提高良品率，隻能損失分辨率。

    生產處的芯片精度太差自然也沒人用了。

    投影式曝光會在掩膜版和光刻膠之間使用透鏡聚光來提高分辨率。

    所以投影式曝光工藝是眼下芯片加工的主要工藝。

    不過投影式曝光隻是大方向。

    下麵還有不同的加工工藝分支。

    如進步式、掃描式、離軸同軸等等……

    其實芯片製造的難點就在這些加工工藝上了。

    不同的加工工藝代表了不同的生產速度和良品率。

    生產效率自然不可同日而語。

    而國內的光刻機之前的光源技術還停留在一代的水平。

    雖然曝光工藝也是投影式，但曝光工藝落後，生產速度和效率不行。

    而蘇翰說的突破，分三個層麵，一個是光源上的突破, 一個就是曝光工藝上的突破, 還有各種生產材料上的突破。

    以前的國產光刻機是一代g光源。

    經過一年多的辛苦研發。

    終於突破到了二代i光源。

    畢竟這會的光刻機光源技術還沒有未來那麽變態。

    隻要錢到位突破起來還是有可能的。

    製約芯片生產主要是投影式曝光的工藝流程。

    蘇翰對光刻機的相關知識其實了解的並不多, 但他知道很多芯片設計圖紙, 其實從這些圖紙上他就能推算出對方的工藝順序到底是什麽。

    畢竟他是精通芯片設計的，隻是不精通設備生產和製造而已。

    不過有了工藝順序，起碼有個模糊的答案。

    雖然答案並不能保證百分之百準確。

    但蘇翰並不是要百分之百準確的答案。

    百分之百準確不是抄襲別人了嗎。

    這樣容易惹起知識產權的糾紛。

    蘇翰隻是給光刻機生產團隊一個工藝思路，剩下的就叫光刻機生產團隊自己去想辦法。（www.101novel.com）